激光脉冲沉积设备公司服务介绍 沈阳鹏程

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀pulsed laser ablation，pla，是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。

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脉冲激光沉积原理

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脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。

常规沉积条件下的组合合成

脉冲激光沉积系统特点及优势：

可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供-技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，-；

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脉冲激光沉积发展前景

由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知，它是一种-发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化，将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用；并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平，加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。系统使用程序化的成像链(opticaltrain)，包括-透镜、反射镜台、动力反射镜支撑架和智能视窗等，无需频繁地校准光学组件。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年脉冲激光沉积行业经验，-脉冲激光沉积研发定制与生产，-的脉冲激光沉积生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话！！！