CK300磁控镀膜机定做团队在线服务

双室磁控溅射系统

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设备简介

主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低；该系列设备主要部件采用进口或者国内-的配置，从而提高设备的稳定性；另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到-地保障。工作气路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路。 目前该系列有基本型、-型、-型、尊享型4种不同配置可供选择，可以根据客户的不同需求进行配置，比较灵活；标配4只φ2英寸永磁靶，4台500w直流溅射电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。

双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些？

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

产品特点

1：此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜

2：该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。

3：该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。