多靶磁控溅射仪,单靶磁控溅射仪,磁控镀膜机
沈阳鹏程真空技术有限责任公司
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主营：多靶磁控溅射仪,单靶磁控溅射仪,磁控镀膜机
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脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。pld 的-之处是能量源脉冲激光位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 torr ~ 100 torr。但由于其各有局限性，仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有-功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外，pld 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制a°/pulse。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ,服务为宗旨。公司生产、销售脉冲激光沉积,公司拥有-的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！
激光分子束外延(laser mbe )
激光mbe 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的pld 与在线工艺监测的反射高能电子衍射rheed的联合应用，用户提供了类似于mbe 的薄膜生长的单分子水平控制。
正确的设计是成功使用rheed 和pld 的重要因数
rheed 通常在高真空<10-6 torr环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，pld 采用较高的压力，差动抽气是-的，
维持rheed 枪的工作压力，同时保持500 mtorr 的pld 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是-的。neocera 的激光mbe 系统可以为用户提供在压力达到500 mtorr 时所需的单分子层控制。
以上内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！
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