多靶磁控溅射仪,单靶磁控溅射仪,磁控镀膜机
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连续组成扩展(ccs )
常规沉积条件下的组合合成
组合合成是一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(ccs) 方法。pld-ccs 系统能以连续的方式改变材料,没有---使用掩模。可以在每一次循环中,以小于一个单分子层的速率,快速连续沉积每一种组份,其结果是基本等同于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶,对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。
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脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物,氮化物,---物薄膜,金属薄膜,磁性材料等。
应用领域:
单晶薄膜外延srtio3,laalo3
压电薄膜pzt,aln,bifeo3,batio3
铁电薄膜batio3,脉冲激光沉积设备厂家,kh2po4
热电薄膜srtio3
金属和化合物薄膜电极ti,ag,au,pt,ni,co,srruo3,lanio3,yzro2,gdceo2,lasrcofeo3
半导体薄膜zn(mg)o,aln,srtio3
高k介质薄膜hfo2,ceo2,al2o3,脉冲激光沉积设备报价,batio3,srtio3,pbzrtio3,laalo3,ta2o5
超导薄膜yba2cuo7-x,bisrcacuo
光波导,光学薄膜pzt,aln,batio3,al2o3,zro2,tio2
超疏水薄膜ptfe
红外探测薄膜v2o5,pzt
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脉冲激光沉积系统配置:
生长室,进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选,激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压rheed,工作气压可达100pa可预留法兰,用于leed,k-cell, e-beam等其它可选项如臭氧发生器,离子源,掩膜系统等。
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