粒子增速器的结构可以与显像管类比。显像管中的电子枪对应于增速器的电子枪或离子源，显像管中加速电子用的高压电极对应于增速器中的高压加速电极及加速腔。显像管中控制电子运动的电偏转板与---电子的---线圈，杭州电子束镀膜机，对应于增速器中控制粒子运动轨道和---粒子束流的多种电磁部件，如导向磁铁、---磁铁、多极校正磁铁等。对粒子增速器的粒子运行管道来说，为了减少粒子在运动中与残余气体碰撞而造成粒子的丢失和束流性能变坏，所要求的真空度比显像管要高数千到数万倍。随着科学技术的不断发展，根据科学家对粒子能量和流强的不同要求，陆续产生了不同原理、不同结构的多种增速器。

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电子束镀膜的溅射方式

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溅射方式是用高速正离子轰击靶材表面，通过动能传输，令靶材的分子原子有足够的能量从靶材表面逸出，在产品表面凝聚形成薄膜。

用溅射的方法制镀的薄膜附着性强，薄膜的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，但是对靶材的要求高，不能象电子枪一样节约资源。

目前运用较多的有磁控溅射，磁控溅射是指平行于阴极表面施加强电场，将电子约束在阴极靶材表面附近，提高电离效率。它是操作比较简单的一种，所以运用非常广。

电子束蒸发镀膜机的用途

电子束蒸发沉积镀膜设备，具有有机材料沉积和金属材料沉积成膜功能。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积.

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